第584章 国产光刻机崛起的希望！高通？小丑罢了！
第584章 国产光刻机崛起的希望！高通？小丑罢了！ (第1/2页)EUV光源，即13.5纳米波长的极深紫外光，是实现“超精密电路雕刻”的核心，直接决定了芯片的最小线宽、集成度与性能上限。
只需一次曝光，就能把掩膜版上的电路图，复制到晶圆表层。
而传统的DUV光刻机，需通过“多重曝光”，才能形成芯片所需的精细线路。
具体来说，就是要对同一区域的光刻胶进行2到4次光刻与显影操作，最终效果才相当于EUV光刻机一次曝光所能达到的水平。
梁劲松从格罗方德、联华电子手里购买的NXT1950iDUV光刻机，虽然也能生产14纳米、乃至10纳米的芯片，但必须利用多重曝光工艺。
然而，多次曝光会导致光刻步骤增加，生产周期变长、良品率骤减、成本迅速上升，至少要高个30%到50%。
这也是为何阿斯麦只要不向华国的Fab工厂出售EUV光刻机，便能牢牢卡住整个半导体行业脖子的主要原因。
即便掌握了其他关键技术，也会因制造成本居高不下，从而失去商业价值与市场竞争力。
就拿同一款芯片产品来说，高通以20美币的价格出售仍有毛利可赚，但国内芯片制造商若同样以20美币的价格售卖，反而要亏损三成。
面对这样的成本与盈利差距，采购方自然不愿买单。
陈延森提出的磁约束放电激发方式，则放弃了激光轰击液态金属锡、激发极深紫外光的方案，转而采用在强磁场约束下，通过高功率脉冲放电，在金属锡靶表面产生稳定、高亮度等离子体的技术路径。
优点显而易见，固态靶材加高压放电，机械结构更简单，稳定性更高。
这是一项差异化极大的技术，可以绕过大量现有的LPP专利壁垒墙。
“辛苦了，继续在磁约束放电激发技术的基础上，深耕延伸专利，以防欧美的半导体公司使用微创新的手段，反过来限制我们。”
陈延森在听完林南的汇报后，当即叮嘱道。
高通为什么栽了？
还不是他在射频、通信解码等技术上，设置了全新的专利壁垒，把高通的出口给堵住了。
要不然，保罗·雅各布能心甘情愿地与天工科技签订专利交叉授权协议？
想都别想！
自己走过的路，当然要堵死！
他可不想有朝一日，突然冒出来一家公司，起诉星源科技侵权。
“好的老板，我知道构建专利生态壁垒的重要性。”林南立即应道。
他是沪城光学精密机械研究所的高级工程师，在行业内小有名气。
之前，星源科技和华科协会下属光电所联手推进攻关计划时，胡锐晖就向陈延森推荐了林南。
陈延森要钱给钱，要器材给器材，完全是一副财大气粗的样子。
林南在研究所蹉跎了十几年，眼看民营公司的研究员都拿到了诺贝尔化学奖，他哪里还坐得住？
在收到陈延森的邀请后，二话不说，就加入了星源科技的光学研究实验室，与光电所的院士们并肩作战，试图另辟蹊径，寻找一种可商用的EUV光源激发方式。
起初毫无进展，直到陈延森指了一条天马行空的路线。
用“电磁场”代替“激光”作为激发和约束等离子体的手段，在放电区域周围设置一组超导磁体线圈，产生一个特殊的磁镜场构型。
先用脉冲电流激发等离子体，再用多层反射镜来收集13.5纳米的波长，最后聚焦和输出。
林南原本不以为然，但在研究一段时间后，他发现老板的方案并非是空想，而是具备极强的可实现性。
事实证明，这条路是对的！
“行，先这样。”
陈延森极为平淡地挂了电话。
在他看来，光刻技术是个无比庞大的环节，除去光源部分，物镜系统、双工作台、光刻胶等模块也是重中之重。
搞定EUV光源的激发方式，不过是千里之行，才走一步而已。
另一边。
林南暗自咋舌，表情有些失控，他其实很想再打回去告诉老板：“凭借这项技术，明年拿个国家最高科学技术奖，也不是没有可能啊！”
可他转念一想，深蓝科技还有三个诺贝尔化学奖的获得者，老板的反应平淡也很正常。
由于‘磁约束放电等离子体光源’是星源科技和华科协会的共同研究成果，消息在国内的科学界飞速传开。
胡锐晖在得知后，猛地站起身，根本不敢相信。
“这才四个月不到，就特么有成果了？开什么玩笑？”
胡锐晖在办公室里走来走去，竟破天荒地爆了粗口。
同一时间，哈工大光学实验室和龙州光机所也收到了消息。
第一反应，假的！
可他们在反复验证后，又不得不相信，星源科技和燕京光电所，还真把EUV光源技术给搞了出来。
并且，还成功绕过了阿斯麦、卡尔蔡司、山星、湾积电和Cymer构筑的专利防御墙。
两个小时后，李青松接到胡锐晖的电话。
“先封锁消息，让安国协会的工作人员立刻赶到沪城，所有参与了研发过程的人员，一律签署保密条例。”
李青松在明白这项技术的重要性后，脸色瞬间变得凝重起来，冲着一旁的秘书吩咐道。
他在星源科技身上，看到了国产光刻机崛起的希望！
“好的，李先生。”秘书不敢耽搁，抓起电话就开始联系安国协会，将需要签署保密条例的人员名单、对接流程一一梳理清楚。
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