第233章 哈工大出钱，支持清华光刻机！

第233章 哈工大出钱，支持清华光刻机！ (第1/2页)

现在，国内哪个大学不知道秦淼的大名？尤其是名牌大学，大家伙都在感慨，这样的优秀人才，怎么没有进入自己的大学？哪怕清华大学，也希望能招收秦淼这样的学生，带着整个大学一起飞啊！
　　
　　甚至，在回来的路上，沈校长还在想，如果秦淼是清华大学的，这光刻机还发愁销路吗？没想到，秦淼居然亲自过来了！
　　
　　倪工站在秦淼的旁边，有些微微的尴尬。
　　
　　怎么回事？
　　
　　秦淼说，他没来过清华大学，不认识这里的师生，怕被打出来，所以让他来给介绍介绍，现在看来，这完全没必要啊！
　　
　　校长，老师……居然听秦淼的声音，就知道他来了！
　　
　　秦淼也有些感慨，自己的名声，这么快就传开了啊！不过……来得正是时候，国内那些目光短浅的蠢货们，外商一次出国游的机会，就把他们给收买了？尸位素餐，统统该枪毙！
　　
　　“来，秦淼同志，您进来，需要我给您介绍一下产品吗？”
　　
　　“好啊。”秦淼点头。
　　
　　“目前，我们研制的最先进的产品，是自动对准分步投影光刻机，随着制程的不断提升，硅圆直径的扩大，这种光刻机已经是必然的选择了……”
　　
　　光刻机，其实和照相差不多，最早的时候，是直接接触方式的，用紫外光源照射，就是把掩膜上的图案转移到硅片上，就相当于把电路在上面留下了印子，后续还需要刻蚀等等程序。
　　
　　直接接触会导致硅片的污染和磨损，工艺精度不高，后来就出现了间接式，在掩膜和硅片之间增加一层间隙空气，避免了接触式光刻机的问题，但是掩膜和硅片，依旧是同样尺寸的。
　　
　　随着技术的提升，硅片的制程越来越先进，掩膜已经刻不出来那么细了，这个时候，光刻机就需要加透镜，把一个大面积的掩膜图案，刻到一个小小的芯片上去，微米级的工艺，这种技术几乎是必须的。
　　
　　一个掩膜只能造一个芯片，在硅圆上刻下一小块，而硅圆直径也是越来越大，人工操作投影机或者是硅片运动来转移到下一个空白的地方刻电路，已经太复杂了，就必须得自动对准，光刻，转移，再光刻，一切都是自动化的。
　　
　　后世不管光刻机怎么发展，除了最先进的几纳米工艺需要的极紫外光刻机之外，其他的大部分光刻机，用的都是这个原理。
　　
　　“工作台的行程160毫米X160毫米，可以加工四英寸到六英寸的芯片，光刻芯片的最大面积是10毫米X10毫米，实际有效分辨率可以达到1.25微米……”
　　
　　“听起来，咱们这光刻机的技术很先进啊。”
　　
　　“那是自然。”徐教授说道：“我们的光刻机，已经达到和西方同等水平了，国内那些工厂……”
　　
　　“是他们瞎眼了，他们不要，我们要！我们订购五台，价格随你们开。”
　　
　　财大气粗啊！倪工才旁边感慨，有钱是真好！
　　
　　徐教授和沈校长对视一眼，都看到了对方眼睛里的欣喜。
　　
　　“秦淼同志，感谢你的支持，我们不赚你们的钱，成本价卖给你们！”
　　
　　秦淼下意识地就想要摇头，什么成本价，这可不行，咱们得多给你们一些钱，这样也方便你们后续搞研发，芯片行业，摩尔定律就是个可怕的魔咒，只要进入这个行业，那就需要不断地研发，研发，再研发，时刻不能停。
　　
　　

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